《低电压电沉积类金刚石碳膜的研究》

技术简介：

采用电化学沉积法，在较低电压下（4.0～8.0V）以甲酸作为主要碳源，甲酸钠作为辅助碳源，二甲基亚砜与去离子水作为溶剂，在不锈钢表面制备了类金刚石碳薄膜，研究了沉积电压对碳膜形貌和成分的影响。电化学沉积含氢类金刚石碳薄膜致密、均匀，膜的电导率与沉积电压呈负相关关系，电导率介于金属与半导体之间。拉曼光谱在1332cm~(-1)处出现金刚石的特征峰，sp~3碳成分随沉积电压的增加而增加。傅里叶红外变换光谱显示沉积的类金刚石碳膜为含氢碳膜。X射线光电子能谱分析显示这些薄膜中存在sp~2和sp~3键碳原子。

研发人员：王历;吴敏娴;李珺;陈艳丽;王文昌;陈智栋;