溶液法旋涂制备Cu_2SnSe_3薄膜

   发布时间: 2022-08-14    访问次数: 13

《溶液法旋涂制备Cu_2SnSe_3薄膜》

技术简介:

采用水溶性前体溶液法旋涂制备Cu_2SnSe_3晶体薄膜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量分散光谱仪(EDS)对该薄膜进行测试表征,并测量其拉曼光谱、霍尔效应和吸收光谱。结果表明:该方法成本低、安全、节能、易于操作,且对硬件设备要求低;薄膜制备所需退火温度较低,且薄膜中的杂质少。


研发人员:连亚军;郭华飞;袁宁一;刘遵峰;