《一种高分子/改性有机蒙脱土激光标记材料及其制备方法和抗菌应用》

技术简介：

本发明公开了高分子/改性有机蒙脱土激光标记材料及其制备方法和抗菌应用,先制备得到层间距增加以及表面修饰有机化官能团的改性蒙脱土；将有机改性蒙脱土、聚苯乙烯熔融共混,制备激光标记母粒,为了进一步提高其抗菌性和标记效果,还加入纳米氧化锌；按一定比例与高分子共混。通过激光打标机对复合材料进行表面激光处理,本发明利用有机蒙脱土的近红外吸收特性以及层间聚苯乙烯高温易碳化特性,诱导高分子基体表面形成黑色碳化以及多孔疏水的表面结构,得到清晰的激光标记图案；表面激光处理后,纳米抗菌的氧化锌颗粒暴露于材料表面,利用纳米氧化锌的抗菌特性以及激光处理后的多孔疏水结构使材料表面具有优异的抗菌性能。

研发人员：曹峥;卢光威;王凯伦;高洪鑫;罗可铭;常嫄;王倩;杨雅雯;成骏峰;吴盾;刘春林