《一种光学增透防雾薄膜的制备方法及应用》

技术简介：

本发明属于光学材料领域,特别涉及一种光学增透防雾薄膜的制备方法及应用。制备方法步骤为：将烯丙基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯溶于无水乙醇中,加入蒸馏水,边搅拌边加入盐酸,制得有机硅聚合溶胶。用浓硫酸和双氧水的混合物对光学基片进行处理,然后超声清洗。用浸渍-提拉法将清洗后的基片浸入有机硅聚合溶胶中,静置后将基片取出,N_2氛围下烘干,制得有机硅光学薄膜。再将制得的薄膜浸泡在臭氧水溶液中,制得光学增透防雾薄膜。经过臭氧处理,增强了薄膜的亲水性,当雾滴接触到薄膜表面时会铺展形成均匀的水膜,避免了因雾滴而产生的光折射和反射,提高了基片的透光率。同时浸泡会使膜表面突出结构被刻蚀掉,膜表面粗糙度会有所降低。

研发人员：徐荣;杨源;钟璟;左士祥;任秀秀;吴楠桦