《一种降低水稻籽粒铬含量的稻田施硅方法》

技术简介：

本发明涉及一种降低水稻籽粒铬含量的稻田施硅方法,其特征是：在铬污染土壤中(土壤铬浓度为1000 mg/kg,达到国家限定标准的3倍以上,属重度污染),总施硅量为200 kg/hm2,分三次施用,分别在水稻栽秧前5天、栽秧后20天、抽穗期各施总施硅量的1/3。在施硅前先将稻田灌薄层水(约3 cm),将硅肥溶于水中浇施,每次每公顷用水量约450 kg。其实施效果与水稻实际生产中常见的不施硅相比,水稻籽粒的铬含量下降69.84%-72.73%,水稻产量提高5.55%-7.45%。在土壤铬重度污染地区,通过该申请专利技术方案的实施,可以使水稻籽粒的铬含量大幅度下降。

研发人员：刘建国;郭雨薇;丁淼