《磷酸根离子吸附型高分子/无机杂化印迹材料及其制备方法和应用》

技术简介：

本发明属于纳米颗粒材料以及高分子/无机杂化印迹材料制备领域,特别涉及一种磷酸根离子吸附型高分子/无机杂化印迹材料及其制备方法。以磷酸根离子(PO-4～(3-))为模板分子,正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,制备了磷酸根离子印迹的介孔二氧化硅(SiO-2)纳米颗粒；随后利用3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(UPTES)对介孔SiO-2颗粒进行表面修饰并引入双键,以N-异丙基丙烯酰(NIPAM)为主单体,过硫酸钾(K-2S-2O-8)为引发剂,制备了以PNIPAM为壳层,以磷酸根离子-印迹的介孔SiO-2纳米颗粒为核的高分子/无机杂化纳米颗粒。该种高分子/无机杂化印迹材料有望应用于磷酸根离子的吸附、分离以及回收领域。

研发人员：曹峥;陈玉园;李丹;王浩;成骏峰;刘春林;吴盾