《一种厚度小于50nm超薄硅基醇水分离膜的制备方法》

技术简介：

本发明属于膜材料制备领域,特别涉及一种厚度小于50nm超薄硅基醇水分离膜的制备方法。当前制膜过程中常用的浸渍提拉法,存在分离层厚度大(>300nm)、通量较小、无法精确调控制备过程等问题,即使采用旋涂法、擦涂法等方法所制备的分离层厚度也难以达到200nm以下。针对以上问题,本发明利用超声波将低浓度的有机硅溶胶雾化,使溶胶分散为无数微小液滴,然后通过载气吹扫将雾化的溶胶沉积在多孔聚合物撑体上,最后进行干燥,制备出分离层厚度<50nm的超薄硅基醇水分离膜。

研发人员：徐荣;朱春晖;钟璟;戚律;张琪