技术简介：
本发明属于光学薄膜材料领域,特别涉及一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法。该方法以正硅酸四乙酯为原料,聚丙烯酸为模板剂,2-异丙氧基乙醇和甲醇共同作为溶剂,氨水为催化剂,以模板法制备得到中空SiO-2镀膜溶胶,采用提拉-浸渍法在玻璃基板上镀制双面薄膜。经550℃煅烧后,得到在透光率波长范围为400-800nm范围内平均透光率在98％以上,硬度达到4H以上减反射薄膜。
研发人员：陈若愚;何鑫;李怡雯;王红宁;刘小华