《一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法》

技术简介：

本发明公开了一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法,选取表面具有绒面结构的Si片作为衬底放入磁控溅射镀膜设备,并将Si片衬底为绒面结构的一侧对准铜靶放置,同时施加直流衬底偏压,在真空腔室中进行溅射,在Si片表面沉积一层具有复合结构的CuO薄膜。本发明通过利用Si片表面的金字塔状绒面结构,由于受到了尖端集电效应的作用,从而使得材料原子在Si片金字塔状绒面上不同位置具有不同的沉积速率,得到各个位置膜厚、均匀度各不相同的复合结构的CuO薄膜,从而增加CuO薄膜性能的多样性,便于其应用在有多方面要求的环境中。

研发人员：苏江滨;王智伟;马骥;何祖明;郎咸忠;唐斌;蒋美萍